Ученые ИПФ РАН создадут литограф для выпуска чипов с топологией 7 нм

Нижегородские ученые Института прикладной физики РАН приступили к созданию литографа для производства микроэлектроники сверхмалого нанометража. Об этом сообщает Техносфера.

Нижегородские ученые Института прикладной физики РАН приступили к созданию литографа для производства микроэлектроники сверхмалого нанометража. Об этом сообщает Техносфера.

Инженеры уже разработали прототип будущего аппарата. Ученым удалось получить изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм. К слову, сейчас в России в промышленных масштабах создают микроструктуры более 65 нанометров.

В стране нет современного литографа. Мы используем иностранное оборудование конца 2000-х годов. Разработка собственной машины займет 6 лет.

За первые два года сделают «альфа-машину», на которой можно будет проводить полный цикл операций. К 2026 году появится «бета-машина». Установку усовершенствуют и роботизируют. На этом этапе литограф можно будет применять в массовом производстве.

На третьем этапе в 2028 году установка будет доведена до идеала и начнет полноценную работу.

Ранее МедиаПоток писал, что лазер на базе ИИ уничтожил тараканов.